La tecnologia TFT es va desenvolupar als anys noranta. Adopta nous materials i nous processos per a la tecnologia de fabricació de circuits integrats de semiconductors a gran escala. S’utilitza per a pantalles planes de cristall líquid (LC), inorgàniques i orgàniques d’electroluminescència de capa fina (EL i OEL). base. TFT és una hòstia no única, com ara un substrat de vidre o plàstic (per descomptat, també pot estar sobre una hòstia) mitjançant processos de polvorització i deposició química per formar diverses pel·lícules necessàries per a la fabricació de circuits i circuits integrats de semiconductors a gran escala (LSIC ) es fabriquen processant les pel·lícules. . L’ús de substrats de cristall no únic pot reduir considerablement els costos, i és una extensió dels circuits integrats tradicionals a gran escala a adreces de grans superfícies, multifuncionals i de baix cost. És més difícil tècnicament fabricar TFT que controlin el rendiment de commutació de píxels (LC o OLED) en substrats de vidre o plàstic de grans superfícies que fabricar circuits integrats a gran escala en hòsties de silici. Els requisits per a l’entorn de producció (el grau de purificació és 100), els requisits per a la puresa de les matèries primeres (la puresa del gas especial electrònic és del 99,999985%) i els requisits per a equips de producció i tecnologia de producció superen la integració a gran escala de semiconductors . És el cim de la producció moderna a gran escala. tecnologia. Les seves principals característiques són:
(1) Àrea gran: la primera generació de substrat de vidre de gran superfície (300 mm × 400 mm) de la línia de producció TFT-LCD es va posar en producció a principis dels anys noranta. A la primera meitat del 2000, l’àrea del substrat de vidre s’havia ampliat a 680 mm × 880 mm) i la mida del substrat de vidre era de 950 mm × 1200 mm. El substrat de vidre també es posarà en funcionament. En principi, no hi ha limitació d’àrea.
(2) Alta integració: el xip TFT de 1,3 polzades utilitzat per a la projecció de cristalls líquids té una resolució de XGA que conté milions de píxels. El gruix de la pel·lícula de silici amorf de matriu TFT de 16,1 polzades amb una resolució de SXGA (1280 × 1024) és de només 50 nm, i les tecnologies TAB ON GLASS i SYSTEM ON GLASS, la integració del seu CI, els requisits d’equips i tecnologia de subministrament , i la dificultat tècnica Tots superen el LSI tradicional.
(3) Funcions potents: TFT es va utilitzar per primera vegada com a circuit de localització de matriu per millorar les característiques de la vàlvula de llum dels cristalls líquids. Per a pantalles d'alta resolució, mitjançant la regulació de la tensió en el rang de 0-6V (normalment de 0,2 a 4V), s'aconsegueix un control precís de l'objecte, cosa que fa possible que la pantalla LCD obtingui pantalles d'alta resolució i alta qualitat. TFT-LCD és la primera pantalla de pantalla plana de la història de la humanitat que supera el CRT en qualitat de pantalla. I la gent comença a integrar l’IC del controlador al substrat de vidre i la funció de tot el TFT serà més potent, cosa que no es pot comparar amb els circuits integrats tradicionals de semiconductors a gran escala.
(4) Baix cost: el substrat de vidre i el substrat de plàstic resolen fonamentalment el problema de costos de circuits integrats de semiconductors a gran escala i obren un ampli espai d'aplicació per a l'aplicació de circuits integrats de semiconductors a gran escala.
